微弧氧化技术的发展现状和存在问题分析

• 作者: 刘明 国大鹏 孙志华 汤智慧 陆峰
• 来源期刊: 装备环境工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 发展现状 存在问题
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 46-49,55
• 页数: 5页
• 分类号: TG176
• 字数: 4225字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9242.2009.06.013

摘要

概述了微弧氧化技术的国内外研究现状、成膜机理和涂层制备的影响因素以及应用情况等,并对微弧氧化技术存在的问题和发展趋势进行了探讨.微弧氧化技术在民用、航空航天等领域具有广阔的发展前景,但至今没有一个完美的理论模型来解释整个微弧氧化成膜的过程;电解液的稳定性问题也是困扰企业和急待解决的难题,而低处理效率和高能耗问题是限制微弧氧化技术产业化应用的关键.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆峰	中国航空工业集团公司北京航空材料研究院	6	74	4.0	6.0
2	国大鹏	中国航空工业集团公司北京航空材料研究院	4	63	2.0	4.0
3	刘明	中国航空工业集团公司北京航空材料研究院	9	89	4.0	9.0
4	孙志华	中国航空工业集团公司北京航空材料研究院	5	67	3.0	5.0
5	汤智慧	中国航空工业集团公司北京航空材料研究院	4	47	3.0	4.0