掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究

• 作者: 刘晓艳 吴再华 高飞
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 双靶直流磁控共溅射 铜掺杂
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 87-89,98
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响.结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能.随着掺铜量的增加,TiO2薄膜的锐钛矿(101)衍射峰越来越强,且吸收边逐渐红移.Cu靶的溅射功率大于3 W,薄膜中就会出现CuO晶相.掺Cu后,TiO2薄膜的光催化性能明显增强.随着Cu的溅射功率的增大,TiO2薄膜的光催化性能先增强,后减弱.Cu的溅射功率为5 W的样品光催化性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓艳	中南大学材料科学与工程学院	62	583	14.0	21.0
2	高飞		2	8	1.0	2.0
3	吴再华		9	43	3.0	6.0