阳极/有机层界面LiF层在OLED中的空穴缓冲作用

• 作者: 侯林涛 刘彭义 张靖磊 武春红
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 有机发光二极管 LiF修饰层 空穴缓冲
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 55-58
• 页数: 4页
• 分类号: TN383.1|TN873.3
• 字数: 1268字
• 语种: 中文

摘要

使用真空热蒸发镀膜法,在OLED层状结构中引入不同厚度的LiF作阳极修饰层,制备了结构为ITO/LiF/TPD/Alq3/Al的器件.LiF超薄层的引入较好地修饰了ITO表面,减少了阳极和有机层界面缺陷态的形成,增强了器件的稳定性.实验结果表明:LiF层有效地阻挡空穴注入,增强载流子注入平衡,提高了器件的亮度和效率,含有1 nm厚LiF空穴缓冲层器件的性能最好,效率较不含缓冲层器件提高了近1.5倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯林涛	暨南大学物理系	16	57	5.0	7.0
2	张靖磊	暨南大学物理系	10	49	4.0	6.0
3	刘彭义	暨南大学物理系	53	370	10.0	18.0
4	武春红	暨南大学物理系	7	29	2.0	5.0