氟化非晶碳膜的微结构分析

• 作者: 肖剑荣 蒋爱华
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氟化非晶碳薄膜 PECVD 微结构 沉积温度
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 2640字
• 语种: 中文

摘要

利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法,在不同的温度下制备了氟化非晶碳膜.采用原子力显微镜(AFM)、X 射线光电子能谱(XPS)和傅里叶红外吸收光谱(FTIR)等仪器对薄膜微结构进行了表征.研究发现,氟化非晶碳膜微观结构与薄膜生长过程温度控制密切相关,温度升高,膜内键合结构变化,sp2相对含量增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖剑荣	桂林工学院数理系	9	25	3.0	4.0
2	蒋爱华	桂林工学院数理系	5	2	1.0	1.0