掺杂钨丝电沉积铬的工艺研究

• 作者: 严敏杰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 铬 掺杂钨丝 工艺参数 耐蚀性 CASS试验
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2240字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.06.019

摘要

为了研究掺杂钨丝(真空镀铬加热元件)表面电解沉积一定厚度(≥100μm)金属铬的工艺,详细考察了不同温度、电流密度、沉积时间等对镀层的影响,并对镀层进行了性能测试.结果表明,最佳工艺条件为:铬酐150～180g/L,硫酸1.5～1.8g/L,稀土(La~(3+))添加剂0.5～1.5g/L,温度为55℃,电流密度为8～10A/dm~2,电镀时间3h.此工艺条件下所得镀层光亮,色泽好,厚度可达100μm,且镀层耐蚀性好,结合力高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严敏杰	上海工程技术大学材料工程学院	18	133	7.0	11.0