工艺参数对SiO2/S涂层形貌与结构的影响

• 作者: 周建新 张莉 徐宏 戴玉林 马秋林
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 结焦 常压化学气相沉积 SiO2/S涂层 工艺参数
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 346-350
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 4447字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.04.02

摘要

为了抑制乙烯裂解炉管内表面结焦,采用常压化学气相沉积方法在HP40试样上制备了SiO2/S涂层.用SEM和Raman光谱研究了沉积温度、源物质分压以及气体流速对SiO2/S涂层形貌和结构的影响.结果表明随着沉积温度的增加,涂层组成粒子直径变化不大,粒子之间的结合更为致密,同时生成的三节环Si-O-Si结构逐渐增多,Si-O-S结构逐渐减少.气体流速与源物质分压对涂层粒子形貌的影响规律相似,随着各自参数的增加,涂层粒子逐渐增大,涂层更加致密.源物质分压和气体流速分别为40Pa和0.4m·s-1时,涂层中含有较多Si-O-S和三节环Si-O-Si结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张莉	化学工程联合国家重点实验室华东理工大学机械与动力工程学院	5	11	2.0	3.0
2	徐宏	化学工程联合国家重点实验室华东理工大学机械与动力工程学院	15	84	4.0	8.0
3	戴玉林		7	43	4.0	6.0
4	周建新	化学工程联合国家重点实验室华东理工大学机械与动力工程学院	4	13	2.0	3.0
8	马秋林		3	14	2.0	3.0