基片温度对PLD制备ZnO薄膜光学常数的影响

• 作者: 于永强 仇旭升 揭建胜 梁齐 章伟 马渊明
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光谱椭偏仪 PLD 氧化锌 光学常数
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 297-303
• 页数: 7页
• 分类号: O472.3
• 字数: 1566字
• 语种: 中文

摘要

光谱椭偏仪被用来研究用脉冲激光沉积方法在Si(100)基片上,温度分别为400,500,600,700 ℃制备的ZnO薄膜的特性.利用三层Cauchy散射模型拟合椭偏参数,计算了每个温度下制备的ZnO薄膜在400～800 nm波长范围内的折射率(n)和消光系数(k).发现基片温度对光学常数有很大的影响.通过分析XRD表征的晶体结构和 AFM表征的薄膜表面形貌,发现折射率的变化归因于薄膜堆积密度的变化.为了获得具有较好的光学和薄膜质量的ZnO薄膜,相比与其他沉积温度600 ℃或许是最佳的沉积温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马渊明	合肥工业大学应用物理系	9	16	3.0	3.0
2	于永强	合肥工业大学应用物理系	11	38	4.0	5.0
3	揭建胜	合肥工业大学应用物理系	4	16	2.0	4.0
4	梁齐	合肥工业大学应用物理系	47	197	7.0	10.0
5	章伟	合肥工业大学应用物理系	5	30	3.0	5.0
6	仇旭升	合肥工业大学应用物理系	4	12	3.0	3.0