熔融法制备高岭石尉甲基苯磺酸插层复合物

• 作者: 徐衡 王涛 赵顺平 郭玉
• 来源期刊: 非金属矿
• 学科: 工学
• 关键词: 高岭石 对甲基苯磺酸(p-TSA) 插层 熔融
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 开发应用
• 页码范围: 37-39,42
• 页数: 4页
• 分类号: TQ324.4
• 字数: 3745字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-8098.2009.04.013

摘要

以高岭石/二甲基亚砜(K/DMSO)为前驱体,用熔融法制备了高岭石/对甲基苯磺酸(K/p-TSA)插层复合物,并用XRD、FI-IR、TG-DSC对插层复合物进行了表征.结果表明:反应12h时,K/p-TSA插层复合物出现1.014nm、1.088nm、1.263nm、1.378nm四个衍射峰,插层率为89.7%,p-TSA分子在高岭石层间主要采取单层倾斜相和双层平卧相,并且K/p-TSA插层复合物在112℃以下较稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭玉	安庆师范学院物理与电气工程学院	17	81	5.0	8.0