直流溅射沉积氧化镍薄膜及结构表征

• 作者: 张宏斌 祝要民 赵胜利
• 来源期刊: 真空
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化镍 薄膜 直流溅射
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: O643|O484|TB43
• 字数: 1938字
• 语种: 中文

摘要

采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能.研究结果表明,在400℃～500℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500℃下退火2 h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜镡电池阳极材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祝要民	河南科技大学材料科学与工程学院	47	281	10.0	13.0
2	赵胜利	河南科技大学材料科学与工程学院	60	307	9.0	13.0
3	张宏斌	河南科技大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0