氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究

• 作者: 刘笑 张卫红 谢方艳 陈建 龚力
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化钨 纳米线 光电子能谱 氩离子轰击
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: O485|O657.62
• 字数: 3126字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2009.01.005

摘要

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,原位研究了氩离子轰击对三氧化钨纳米线薄膜的还原作用,钨的价态由+6价逐渐被还原为0价,并获得了具有多价态结构的氧化钨薄膜.通过对实验结果的分析,定性描述了氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的原理,认为择优溅射在整个还原过程中起着关键作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卫红	中山大学测试中心	62	261	10.0	15.0
2	陈建	中山大学测试中心	40	94	5.0	8.0
3	谢方艳	中山大学测试中心	17	83	5.0	8.0
4	龚力	中山大学测试中心	11	32	3.0	5.0
5	刘笑	中山大学测试中心	1	5	1.0	1.0