不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究

• 作者: 宁兆元 朱丽 杜记龙 江美福 王培君
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 疏水性 反应磁控溅射 氟化类金刚石膜 射频功率
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 6430-6435
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2009.09.089

摘要

以高纯石墨作靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,用反应磁控溅射法在不同射频功率下制备了氟化类金刚石碳(F-DLC)膜,并对其疏水性进行研究.双蒸水液滴与膜表面接触角的测试结果表明,所制备薄膜表面的最大水接触角可达115°左右.通过原子力显微镜获得的薄膜表面AFM图谱、拉曼光谱以及傅里叶变换红外光谱探讨了影响薄膜的疏水性的因素.结果表明,薄膜的疏水性与薄膜的表面粗糙度和表面键结构直接相关,表面粗糙度越大,疏水性越好,但与薄膜中的F含量和sp3/sp2的比值并未呈单调增加或减小的对应关系.射频输入功率影响着薄膜的沉积速率,与薄膜表面粗糙度、薄膜中芳香环单核的比例以及薄膜表面的键结构(F的接入方式)直接相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理科学与技术学院	70	528	12.0	18.0
2	江美福	苏州大学物理科学与技术学院	17	144	7.0	11.0
3	朱丽	苏州大学物理科学与技术学院	13	71	6.0	8.0
4	杜记龙	苏州大学物理科学与技术学院	4	17	2.0	4.0
5	王培君	苏州大学物理科学与技术学院	4	17	2.0	4.0