氧分压对HfOxNy薄膜结构和力学性能的影响

• 作者: 刘伟 刘嘉禾 张树玉 王宏斌 苏小平 闫兰琴
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮氧化铪薄膜 射频磁控反应溅射 晶体结构 显微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3083字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料.用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等.结果表明:在氧分压为0.05～0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘嘉禾		3	18	2.0	3.0