硅衬底Al_2O_3∶Tb~(3+)薄膜的制备及其发光性能

• 作者: 周箭 杨辉 申乾宏 石涛
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 化学
• 关键词: 溶胶凝胶法 Al_2O_3∶Tb~(3+) 薄膜 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1105-1109
• 页数: 5页
• 分类号: O648
• 字数: 3879字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1077.2009.01105

摘要

采用溶胶凝胶法在硅衬底上制备了Al_2O_3∶Tb~(3+)薄膜;并采用DTA-TG、 XRD、 SEM、 AFM及光致发光光谱对其进行了一系列表征;分析了Al_2O_3∶Tb~(3+)薄膜的发光机理, 探讨了热处理温度和Tb~(3+)掺杂浓度对发光性能的影响规律. 研究结果表明, 采用溶胶凝胶法制备工艺, 制备了高发光强度的Al_2O_3∶Tb~(3+)薄膜, 薄膜的最佳激发波长为240nm, Tb~(3+)的最佳掺杂浓度为5mol%(Tb_2O_3/Al_2O_3=5mol%), 在240nm光激发下, 最强的发射峰出现在544nm附近;并且制备的Al_2O_3∶Tb~(3+)薄膜表面致密、平整且无裂纹产生, 表面粗糙度约为1.3nm, 有利于硅基光电子器件的制备和应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨辉	浙江大学材料科学与工程学系	356	3707	28.0	43.0
2	申乾宏	浙江大学材料科学与工程学系	54	459	13.0	19.0
3	周箭	浙江大学材料科学与工程学系	24	295	8.0	17.0