数控选区电化学沉积快速成型补偿量研究

• 作者: 李湘生 梁天长 黎建军
• 来源期刊: 浙江理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学沉积 快速成型 补偿量 离子运动轨迹线
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 机电与信息科技
• 页码范围: 379-383
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.4
• 字数: 3200字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3851.2009.03.016

摘要

选区电化学沉积快速成型是一种新的金属快速成型工艺,有必要对工艺关键补偿量进行研究.以硫酸铜溶液为介质,建立电化学沉积模型,并对补偿量影响因素进行了研究.利用测量投影仪测量不同工况下获得的沉积斑点,得到阴阳极间隙、阳极头面积、电流密度、运动速度等对补偿量大小的影响规律,并得到适合数控选区电化学沉积快速成型的补偿量及对应的工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李湘生	浙江理工大学机械与自动控制学院	33	51	4.0	6.0
2	梁天长	浙江理工大学机械与自动控制学院	6	20	2.0	4.0
3	黎建军	浙江理工大学机械与自动控制学院	7	20	2.0	4.0