退火温度对TiO2薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 刘佳 朱昌
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2 退火温度 结晶 光学性能 薄膜 离子束溅射
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 3246字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.015

摘要

为制备光学性能良好的TiO2薄膜.采用离子束溅射(IBS)的方法,改变退火温度,在Si基底上制备氧化钛(TiO2)薄膜.利用XRD、XPS、SEM测试薄膜的成分、结晶形式和表面形貌,椭圆偏振光谱仪分析薄膜折射率和消光系数.试验结果发现:随退火温度的增加,薄膜由锐钛矿相变为金红石相,400℃薄膜结晶为锐钛矿相TiO2,1 100℃退火后,薄膜结晶为金红石相TiO2;退火温度升高使薄膜折射率和消光系数随之升高.由此可得, 800℃退火时,TiO2薄膜具有最佳光学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱昌	西安工业大学光电工程学院	39	245	9.0	13.0
2	刘佳	西安工业大学光电工程学院	17	25	3.0	3.0