纳米Al2O3颗粒对镍电结晶过程的影响

• 作者: 刘宇 崔航 胡炜 谭澄宇
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Al2O3膜 电结晶形核 I～t曲线
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 228-232
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.3
• 语种: 中文

摘要

借助循环伏安(CV)和计时安培(CA)研究了在不同电位下,纳米Al2O3微粒对镍由硫酸盐混合溶液在铜基底上电结晶沉积的影响.结果表明,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的起始电位约为-740 mV.随着阶跃电位负移,Ni-Al2O3镀液体系电沉积成核时间tm逐渐缩短.与纯Ni镀液体系电沉积的tm相比,在=740～-830lnv较低阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积的成核时间tm明显缩短,表明Al2O3微粒有助于镍的电结晶成核.在-890 mV阶跃电位下,Ni-Al2O3镀液体系电沉积初始阶段的成核过程满足scharifker-Hills三维瞬时成核模型.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘宇		70	565	13.0	21.0
2	胡炜		10	44	5.0	6.0
3	谭澄宇		39	512	11.0	21.0
4	崔航		7	42	5.0	6.0