钕氟复合掺杂二氧化钛纳米线阵列的光催化性能

• 作者: 王建军 章少华 胡江峰 谢冰
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 共掺杂 二氧化钛纳米线阵列 光催化性能 多孔氧化铝模板
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 926-929
• 页数: 4页
• 分类号: TU528
• 字数: 2923字
• 语种: 中文

摘要

利用溶胶-电泳沉积技术,以多孔有序阳极氧化铝膜为模板制备Nd~(3+)/F~-共掺杂的二氧化钛纳米线阵列.用扫描电子显微镜、X射线衍射仪对其进行表征,并以甲基橙为降解物,对Nd~(3+)单掺杂TiO_2、F~-单掺杂TiO_2和Nd~(3+)/F~-共掺杂TiO_2进行了光催化降解性能研究.结果表明:Nd~(3+)/F~-共掺杂TiO_2纳米线阵列具有比单元素掺杂更高的光催化活性,光照1 h对甲基橙的降解率均达到90%以上.同时,杂质离子的引入使得TiO_2薄膜的吸收波长发生红移,实现了在不降低TiO_2光催化性能的同时又具有可见光活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢冰	南昌大学分析测试中心	34	334	10.0	17.0
2	章少华	南昌大学材料科学与工程学院	27	287	10.0	16.0
3	胡江峰	南昌大学材料科学与工程学院	4	70	4.0	4.0
4	王建军	南昌大学材料科学与工程学院	3	21	2.0	3.0