红外发射率调制技术研究

• 作者: 乔亚 吴丹 李玉波 路远
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 红外发射率 机械式 半导体 电化学
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 236-239
• 页数: 4页
• 分类号: TN21
• 字数: 2061字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.04.013

摘要

物体红外发射率的调制具有广泛的应用前景.从理论上研究了红外发射率的调制机理,给出了三种调制发射率的技术途径:机械式、半导体载流子调制和电化学式.机械式发射率调制技术是利用不同发射率的材料组合来进行调制,通过调整不同材料在表面所占比例来调整发射率.半导体材料可通过调制PN结中的自由电子浓度实现红外发射率的调节.电化学式调制可通过多层薄膜实现.通过电场控制器件中变发射率薄膜层的离子和电子浓度,实现器件红外发射率的调制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	路远	电子工程学院安徽省红外与低温等离子体重点实验室	34	257	10.0	15.0
2	吴丹	电子工程学院安徽省红外与低温等离子体重点实验室	19	125	7.0	10.0
3	李玉波	电子工程学院安徽省红外与低温等离子体重点实验室	8	38	3.0	6.0
4	乔亚	电子工程学院安徽省红外与低温等离子体重点实验室	16	63	5.0	7.0