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K掺杂PST薄膜的制备与介电调谐性能
K掺杂PST薄膜的制备与介电调谐性能
作者:
孙小华
徐晓飞
王强
邹隽
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
钛酸锶铅
K掺杂
薄膜
Sol-Gel
介电调谐
摘要:
采用Sol-Gel法在Pt/TiO2/SiO2/Si基底上制备了多种不同组分的(Pb0.3Sr0.7)1-xKxTiO3(PST)(x=0,1mol%,2.5mol%,5mol%)多层均匀薄膜,并研究了它们的介电调谐性能.发现掺杂后薄膜的晶型未改变,介电常数降低及介电损耗减小.1MHz时,随K含量的从0增加至5mol%,薄膜的介电常数从841降低至539,而介电损耗由0.134减小到0.058,其微波介电综合性能改善.
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文献信息
篇名
K掺杂PST薄膜的制备与介电调谐性能
来源期刊
三峡大学学报(自然科学版)
学科
物理学
关键词
钛酸锶铅
K掺杂
薄膜
Sol-Gel
介电调谐
年,卷(期)
2009,(4)
所属期刊栏目
机电工程
研究方向
页码范围
76-79
页数
4页
分类号
O484.42
字数
2463字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-948X.2009.04.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
徐晓飞
三峡大学机械与材料学院
5
11
2.0
3.0
2
孙小华
三峡大学机械与材料学院
26
91
5.0
8.0
3
邹隽
三峡大学机械与材料学院
16
58
4.0
7.0
4
王强
三峡大学机械与材料学院
24
60
5.0
7.0
传播情况
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引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
钛酸锶铅
K掺杂
薄膜
Sol-Gel
介电调谐
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
三峡大学学报(自然科学版)
主办单位:
三峡大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-948X
CN:
42-1735/TV
开本:
大16开
出版地:
湖北省宜昌市大学路8号
邮发代号:
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3272
总下载数(次)
3
总被引数(次)
16186
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