牙科用镍铬合金表面等离子磁控溅射氮化钛膜对镍离子析出的影响

• 作者: 严晓东 唐成忠 梅建平 毛钊
• 来源期刊: 临床口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 磁控反应溅射技术 镍铬合金 离子析出
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 275-276
• 页数: 2页
• 分类号: R783.1
• 字数: 1354字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1634.2009.05.007

摘要

目的:研究等离子磁控反应溅射TiN膜对镍铬合金Ni离子析出的影响.方法:利用等离子磁控反应溅射技术在牙科用镍铬合金表面沉积TiN离子膜,以未溅射前为对照,浸泡于人工唾液中,通过电感偶合等离子体发射光谱-质谱连用仪(ICP-MS)定量检测Ni离子析出量.结果:沉积了TiN膜后的镍铬合金镍离子析出量均数为634.3 ng/ml,而未沉积组Ni离子析出均数为3894.3 ng/mL经t检验两者具有显著的统计学差异(P<O.05).结论:牙科用镍铬合金表面等离子磁控反应溅射TiN膜Ni离子的析出量有显著降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	毛钊	南京军区南京总医院口腔科	42	268	10.0	13.0
2	唐成忠	南京军区南京总医院口腔科	19	94	6.0	8.0
3	严晓东	南京军区南京总医院口腔科	10	75	5.0	8.0
4	梅建平	南京军区南京总医院口腔科	1	2	1.0	1.0