膜层厚度对蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜性质的影响

• 作者: 付申成 向嵘 吴奎 姜德龙 李野 王国政 王新 端木庆铎
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化铟锡 磁控溅射 X射线衍射 光透过率 电阻
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 712-716
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41|O484.42
• 字数: 2330字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射的方法在蓝宝石衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明氧化物薄膜;研究了不同厚度薄膜的结构、光学和电学特性.经X射线衍射(XRD)测量,发现在蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜呈现了较高的(222)择优取向;随着膜层厚度的增加,该衍射峰对应的2θ衍射角逐渐向大角度方向移动,同时该衍射峰的半峰全宽逐渐减小,平均晶粒尺寸增大.经光学透射光谱测量,发现随着膜层厚度的增加,光学透过率逐渐减小.膜层厚度为0.2 μm时,可见光透过率超过80%,当膜层厚度为0.8 μm时,可见光透过率下降到60%.电学测量结果表明,随着膜层厚度的增加,薄膜电阻率逐渐减小.膜层厚度为0.2 μm时,电阻率为9×10-4 Ω·cm, 膜层厚度为0.8 μm时,电阻率为5.5×10-4 Ω·cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李野	长春理工大学理学院	68	297	9.0	13.0
2	姜德龙	长春理工大学理学院	25	153	6.0	10.0
3	端木庆铎	长春理工大学理学院	56	241	8.0	12.0
4	王国政	长春理工大学理学院	51	208	8.0	11.0
5	付申成	长春理工大学理学院	15	78	5.0	8.0
6	王新	长春理工大学理学院	42	87	5.0	6.0
7	向嵘	长春理工大学理学院	12	57	5.0	6.0
8	吴奎	长春理工大学理学院	16	102	5.0	9.0