沉积温度对TiB2涂层的组成与形貌的影响

• 作者: 何庆兵 吴护林 孙彩云 张隆平 李忠盛 陈大军
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: TiB2 化学气相沉积 涂层形貌 物相组成
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 50-54
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5053.2009.03.010

摘要

利用TiCl4-BCl3 -H2-Ar反应体系,用化学气相沉积法(CVD)在石墨基体上沉积了TiB2涂层,并对涂层的物相、沉积速率、微观结构、表面形貌进行了分析.结果表明:沉积的涂层物相由TiB2组成.随着沉积温度的提高,沉积速率加快,涂层的显微硬度先增加后降低,950℃时达到最大值.沉积温度的升高,TiB2涂层颗粒尺寸明显增大,在900℃～950℃范围内能沉积出结构致密、颗粒尺寸适合的TiB2涂层.分析了TiB2涂层的沉积机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张隆平		25	235	8.0	15.0
2	吴护林		34	275	8.0	15.0
3	李忠盛		18	122	7.0	10.0
4	孙彩云		5	21	4.0	4.0
5	何庆兵		9	72	5.0	8.0
6	陈大军		7	31	3.0	5.0