测试方法对硅片表面微粗糙度测量结果影响的研究

• 作者: 孙媛 孙燕 徐继平 李俊峰 李婧璐 李莉
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 表面微粗糙度 测量 硅片
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 884-888
• 页数: 5页
• 分类号: TN307
• 字数: 3997字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2009.06.024

摘要

随着大规模集成电路的快速发展, 硅片表面微粗糙度对于器件制造的影响也越来越受到人们的重视. 介绍了几种测量硅片表面微粗糙度的测试方法, 并将它们分成三类, 简单阐述了每一类测试方法的测试原理, 影响测试结果的因素, 从实际应用的角度详细阐述了这三类测试方法的适用情况、通过详细的测试数据及图形对这三类测试方法进行了分析, 并对这三类测试方法进行了比较. 最后简单介绍了纳米形貌和硅片表面微粗糙度之间的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊峰		2	22	2.0	2.0
2	李莉		3	23	2.0	3.0
3	徐继平		2	6	1.0	2.0
4	孙燕		1	6	1.0	1.0
5	孙媛		1	6	1.0	1.0
6	李婧璐		1	6	1.0	1.0