场发射显示Ag膜电极的制备及其电性能

• 作者: 叶芸 曾祥耀 袁军林 郭太良
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 银薄膜 磁控溅射功率 微观结构 电阻率
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 706-711
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|O484.42
• 字数: 3523字
• 语种: 中文

摘要

场发射显示(FED)被认为是CRT的平板化,受到人们关注.作者采用直流磁控溅射法,在Al2O3过渡层上制备面心立方结构的Ag多晶薄膜.通过XRD、SEM、AFM测试分析发现,溅射功率分为两个区域,在溅射功率不高于2.8 kW时,沉积速率随着功率线性增大,得到Ag膜晶粒尺寸均一,薄膜电阻率逐步降低;溅射功率高于2.8 kW后,沉积速率没有显著增大,出现较多的大晶粒,电阻率升高,并且从理论上给出了解释.综合来看,溅射功率在2.8 kW所制备的Ag膜微观结构质量达到最佳,电阻率也达到最小值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
2	叶芸	福州大学物理与信息工程学院	47	123	5.0	8.0
3	袁军林	福州大学物理与信息工程学院	6	15	3.0	3.0
4	曾祥耀	福州大学物理与信息工程学院	8	42	4.0	6.0