非真空密闭条件下的Ce3+: LiYF4晶体生长

• 作者: 徐方 方奇术 武安华 王苏静 蒋成勇 陈红兵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光晶体 Ce3+:LiYF4 氟化处理 晶体生长 坩埚下降法
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 页码范围: 813-817
• 页数: 5页
• 分类号: O782
• 字数: 3220字
• 语种: 中文

摘要

本文报道了氟化物激光晶体Ce3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.以高纯氟化物LiF、YF3和CeF3为初始试剂,按照LiF: YF3: CeF3 = 51.5: 47.5: 1.0的物质的量比配料,经高温氟化处理合成严格无水的Ce3+: LiYF4多晶料.将Ce3+: LiYF4多晶料密封于铂坩埚中,添加少量聚四氟乙烯粉末,可避免氟化物熔体的氧化与挥发,从而在非真空条件下实现Ce3+: LiYF4晶体的坩埚下降法生长,成功生长出尺寸达28 mm×70 mm的无色透明完整单晶.采用XRD、差热/热重分析、透射光谱和荧光光谱对Ce3+: LiYF4单晶基本性质的进行表征.结果表明,该晶体在320~3000 nm区域内的光透过率达90%以上,晶体在297 nm处有一强吸收峰;荧光光谱显示晶体在紫外光区310 nm、325 nm处有两个强发射峰.