制备二氧化硅薄膜的质谱原位诊断及其特性研究

• 作者: 张军峰 张跃飞 陈强
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化硅 薄膜 四极杆质谱仪 在线检测 性能
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 自动控制
• 页码范围: 61-65
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4|TH848|TB43
• 字数: 3862字
• 语种: 中文

摘要

采用40 kHz中频脉冲电源,利用电容耦合等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体,氩气为辅助气体,在PET薄膜表面沉积应用于透明高阻隔包装的氧化硅薄膜,并对其进行研究.在薄膜的制备过程中,为了了解氧化硅的形成机理,通过四极杆质谱仪对等离子体放电的气相中间产物及活性粒子进行原位检测;而通过傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)及原子力显微镜(AFM)对沉积薄膜进行化学组成及表面形貌分析表征,探讨沉积过程中等离子体气相粒子的产生和反应对薄膜特性的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	125	542	10.0	17.0
2	张跃飞	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	41	237	9.0	13.0
3	张军峰	北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室	5	13	2.0	3.0