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摘要:
为满足各技术领域的要求,硬质薄膜业近年来得到了广泛的发展和应用.本文介绍了硬质薄膜技术的最新发展状况,阐述了各技术的特点和代表厂商.首先对CVD及其相关技术的发展情况进行了简介,再对PVD技术在硬质薄膜领域的应用进行了详述,最后对国内相关产业的发展进行了介绍和总结,同时本文对硬质薄膜技术在我国未来的发展提出了展望.
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篇名 硬质薄膜技术的最新发展
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 硬质薄膜 化学气相沉积 物理气相沉积 阴极电弧 磁控溅射
年,卷(期) 2009,(6) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 35-39
页数 5页 分类号 TB43
字数 4676字 语种 中文
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磁控溅射
研究起点
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期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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