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摘要:
提出了一种用于光刻装置的对准系统.该对准系统所用的标记包含多个相位子光栅.其中,标记±1级衍射光的光强信息用于产生粗对准信号.在粗对准信号上,通过峰值检测和信号拟合获得最大峰值点,该峰值点即为粗对准位置.同时,在另一光路中,精细子光栅的±1级衍射光的光强信息用于产生精对准信号.利用余弦或正弦曲线对该精对准信号进行拟合,得到一系列的波峰点.距离粗对准位置最近的波峰点即为精对准位置.当精细子光栅的周期足够小时,该对准系统可获得5 nm级的重复精度.
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文献信息
篇名 基于粗对准与精对准信号分开探测的对准系统
来源期刊 光学与光电技术 学科 工学
关键词 光刻机 对准系统 相位光栅 信号拟合 粗对准 精对准
年,卷(期) 2009,(6) 所属期刊栏目 光电测量
研究方向 页码范围 61-64
页数 4页 分类号 TN305.7
字数 1959字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-3392.2009.06.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李运锋 2 1 1.0 1.0
2 韦学志 2 1 1.0 1.0
3 宋海军 2 1 1.0 1.0
4 徐荣伟 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
光刻机
对准系统
相位光栅
信号拟合
粗对准
精对准
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
双月刊
1672-3392
42-1696/O3
大16开
武汉市阳光大道717号
38-335
2003
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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