Nd-Fe-B薄膜的磁控溅射法制备与组织结构

• 作者: 傅宇东 王刚 郭在在 闫牧夫 高菲
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Nd-Fe-B薄膜 工艺参数 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 2008年全国暨哈尔滨市青年材料热处理与表面工程学术研讨会专题
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 语种: 中文

摘要

对直流磁控溅射法制备Nd-Fe-B薄膜工艺进行了研究.在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜,并对薄膜进行了AFM、XRD分析.结果表明,Nd-Fe-B薄膜的沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关.薄膜的沉积速率随磁控溅射功率的增加而增加,薄膜表面晶粒尺寸和表面粗糙度随溅射功率增加而增大.沉积速率随溅射气压的升高先增大后减小.低功率溅射时,薄膜中出现α-Fe、Nd2Fe14B相相对较少,随溅射功率增加,α-Fe相消失,Nd2Fe14B相增多.综合考虑各种因素,最佳溅射功率为100～130 W.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	230	2830	30.0	42.0
2	闫牧夫	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	54	249	10.0	12.0
3	傅宇东	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	25	116	7.0	10.0
7	高菲	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	4	29	3.0	4.0
8	郭在在	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	2	9	1.0	2.0