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工艺条件对镁合金微弧氧化陶瓷层孔隙率的影响
工艺条件对镁合金微弧氧化陶瓷层孔隙率的影响
作者:
张龙
李淑华
谭成文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
镁合金
微弧氧化
陶瓷层
孔隙
摘要:
利用微弧氧化技术在AZ91D镁合金表面原位生长陶瓷膜,通过调节电解液浓度、控制起弧电压,以探索减少陶瓷层中孔洞及孔径的工艺方法.结果表明:选择合适的电解液的浓度可以减少陶瓷层中孔隙,控制微弧氧化过程中的起弧电压也可以减少陶瓷层中的孔隙和孔径.
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篇名
工艺条件对镁合金微弧氧化陶瓷层孔隙率的影响
来源期刊
硅酸盐通报
学科
工学
关键词
镁合金
微弧氧化
陶瓷层
孔隙
年,卷(期)
2009,(z1)
所属期刊栏目
专题论文
研究方向
页码范围
180-182
页数
3页
分类号
TG146.4
字数
2335字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
谭成文
北京理工大学材料科学与工程学院
49
459
13.0
19.0
2
张龙
7
5
1.0
2.0
3
李淑华
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研究去脉
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期刊影响力
硅酸盐通报
主办单位:
中国硅酸盐学会
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-1625
CN:
11-5440/TQ
开本:
16开
出版地:
北京市朝阳区东坝红松园1号中材人工晶体研究院733信箱
邮发代号:
80-774
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
8598
总下载数(次)
10
总被引数(次)
58151
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