退火处理对ZnS薄膜的结构和光学性质的影响

• 作者: 丁旭丽 于业梅 张霞 徐言东 李新坤 李清山 蒙延峰
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 薄膜 光学带隙 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 634-639
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|O484.41
• 字数: 2959字
• 语种: 中文

摘要

在200 ℃下利用激光沉积技术分别在玻璃和Si(100)上沉积制备了ZnS薄膜,并在300,400,500 ℃下退火1 h.用X射线衍射(XRD)仪、紫外/可见光/近红外分光光度计、台阶仪和原子力显微镜(AFM)分别对不同衬底上样品的特征进行了观察.结果表明,玻璃上的ZnS薄膜只在28.5°附近存在着(111)方向的高度取向生长.在可见光范围内透射率为60%～90%.计算显示薄膜的光学带隙在3.46～3.53 eV之间,其小于体材料带隙的原因在于硫元素的缺失.根据光学带隙判断薄膜是单晶立方结构的β-ZnS.Si(100)上生长的是多晶ZnS薄膜:500 ℃下退火后,表面也比未退火表面更加平整致密,变化规律与ZnS/glass的类似.说明高温下退火可以有效地促进晶粒的结合并改善薄膜质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒙延峰		13	104	6.0	10.0
2	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
6	徐言东	曲阜师范大学物理工程学院	5	17	3.0	4.0
7	李新坤	曲阜师范大学物理工程学院	5	19	3.0	4.0
8	于业梅	曲阜师范大学物理工程学院	3	13	2.0	3.0
9	丁旭丽	曲阜师范大学物理工程学院	2	10	2.0	2.0