LY12铝合金微弧氧化膜的生长过程

• 作者: 刘明 国大鹏 孙志华 宇波 汤智慧 郭孟秋 陆峰
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 铝合金 氧化膜 生长过程 形貌 电化学阻抗谱
• 年，卷（期）: 2009,（10）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 10-12,16
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 3239字
• 语种: 中文

摘要

为了进一步了解铝合金微弧氧化膜的生长状况、生长过程和机理,在硅酸盐体系中,采用恒流法对LY12铝合金分别进行了5,10,30,45,75,120 min的微弧氧化处理.采用扫描电镜和电化学阻抗谱对氧化膜进行了分析.结果表明:随着氧化时间的延长,氧化膜明显变得粗糙,膜内孔道被填补;随着膜层厚度的增加,反应后期氧化膜分为内外2层,表层疏松,内层致密;电化学阻抗谱由双容抗形转变为拉长的半圆弧,反应电阻增加,电化学过程由活化过程转变为扩散过程控制,氧化膜对基体的保护性能增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤智慧		88	790	15.0	21.0
2	刘明		42	357	11.0	16.0
3	孙志华		63	690	16.0	22.0
4	陆峰		122	1441	20.0	29.0
5	宇波		22	201	10.0	13.0
6	郭孟秋		25	167	8.0	11.0
7	国大鹏		7	76	6.0	7.0