物理气相沉积TiN涂层的研究现状与展望

• 作者: 蒋庐珍 魏仕勇 黄艳
• 来源期刊: 江西科学
• 关键词: TiN涂层 多元、多层涂层 复合涂层
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 466-471
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3679.2009.03.036

摘要

综述了近年来物理气相沉积TiN多元和多层涂层、化学镀Ni-P与PVD和气体氮化与PVD的研究及应用.并指出通过将物理气相沉积与其他表面强化技术结合制取复合涂层及合理的多元、多层设计,可进一步发挥PVD TiN涂层的优势,克服单一TiN涂层的不足.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏仕勇		35	114	6.0	9.0
2	黄艳		29	51	4.0	6.0
3	蒋庐珍		4	15	2.0	3.0