聚甲基丙烯酸甲酯薄膜表面的亚微米级图案化

• 作者: 吴仲岿 姚树寅 晏海英 陈红
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 微流道 图案化 真空紫外光刻 亲水性
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 11-13
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 1373字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.08.004

摘要

利用波长为172nm的真空紫外光刻蚀技术(Vacuum ultraviolet lithography,VUV)对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的表面进行了图案化微加工,并采用扫描电镜和原子力显微镜对微图案化的PMMA膜的表面形貌进行了表征.此外,还通过跟踪测试真空紫外光照后PMMA膜表面随时间变化的水接触角研究了表面的亲疏水性.结果表明,利用该方法可以成功地在PMMA基材上一次性制备出保真度较好的亚微米级微流道,而且使微流道内表面具有稳定持久的亲水性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴仲岿	武汉理工大学材料科学与工程学院	36	207	8.0	12.0
2	陈红	武汉理工大学材料科学与工程学院	16	167	8.0	12.0
6	姚树寅	武汉理工大学材料科学与工程学院	3	23	2.0	3.0
7	晏海英	武汉理工大学材料科学与工程学院	3	23	2.0	3.0