直流反应磁控溅射在3003铝箔表面制备薄膜的研究

• 作者: 刘凤芹 史新伟 左秀荣 李广钦 王齐伟 黄晓辉
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 薄膜 3003铝箔 AlMo3 Al3Mo TiAl (Ti,Al)N
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: O484|TB43
• 字数: 2771字
• 语种: 中文

摘要

为有效提高3003铝箔表面光泽度、比面积及强硬度,采用直流反应磁控溅射的方法.在一定溅射参数条件下,选用高纯钼靶和钛靶对3003铝箔进行溅射实验,分别在铝箔表面主要沉积出AlMo3、Al3Mo薄膜和TiAl、(Ti,Al)N薄膜,利用X射线衍射、扫描电镜分析相组成及微观组织结构,并测试了显微硬度和薄膜厚度,实验结果表明:制备出的AlMo3、Al3Mo薄膜和TiAl薄膜结晶良好,与基底结合良好,铝箔表面美观漂亮、硬度增高及比表面积得到一定提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左秀荣	郑州大学材料物理教育部重点实验室	74	576	14.0	21.0
2	史新伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	28	177	7.0	12.0
3	黄晓辉	郑州大学材料物理教育部重点实验室	10	42	4.0	6.0
4	李广钦	郑州大学材料物理教育部重点实验室	7	130	5.0	7.0
5	王齐伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	7	49	4.0	7.0
6	刘凤芹	郑州大学材料物理教育部重点实验室	3	30	3.0	3.0