掺N类金刚石薄膜的制备及微观结构分析

• 作者: 曾礼丽 杨兵初 赵峥 陈海平
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 类金刚石薄膜 微观结构 结合能
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 770-774
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3574字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.08.014

摘要

采用直流磁控溅射法,在光学玻璃衬底上沉积类金刚石(DLC)和掺N类金刚石薄膜(DLC:N).用喇曼光谱、X射线光电子能谱(XPS)、傅里叶红外光谱(FTIR)等研究分析了所制备薄膜的微观结构.喇曼光谱的结果表明,掺N类金刚石膜仍具有典型的类金刚石膜结构,在类金刚石薄膜中掺N不仅有助于提高膜中sp3/sp2的比例,而且还能阻止sp2键向石墨相的转化,稳定并优化薄膜的类金刚石属性.FTIR表明,薄膜中N与C原子形成了C-N、C=N及C≡N等键合方式.XPS谱表明,掺N类金刚石膜中除了C和N元素外,还出现了少量的O元素,而C1s和N1s的解谱显示,掺N后的类金刚石膜中的C、N结合能发生了明显的移动,由计算得出薄膜中N的含量为13.5%.薄膜的表面形貌图(AFM)表明,在类金刚石薄膜中掺N能够改善其表面形貌.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵初	中南大学物理科学与技术学院	65	347	10.0	13.0
2	赵峥	中南大学物理科学与技术学院	2	3	1.0	1.0
3	曾礼丽	中南大学物理科学与技术学院	3	4	2.0	2.0
4	陈海平	中南大学物理科学与技术学院	2	2	1.0	1.0