末端N-Ivdde保护的氨基酸的合成

• 作者: 徐红岩 李战雄 李文曲
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 氨基酸 保护基 Ivdde 合成
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 快递论文
• 页码范围: 213-215
• 页数: 3页
• 分类号: O629.71
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-1511.2009.02.020

摘要

以Ivdde为保护基,对4种氨基酸(Fmoc-Dap-OH,Fmoc-Dab-OH,Fmoc-Orn-OH和Fmoc-Lys-OH)的末端氨基进行保护,分别合成了末端氨基Ivdde保护的氨基酸[Fmoc-Dap(Ivdde)-OH,Fmoc-Dab(Ivdde)-OH,Fmoc-Orn(Ivdde)-OH和Fmoc-Lys(Ivdde)-OH],其结构经1H NMR,13C NMR,IR及元素分析表征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李战雄	苏州大学纺织与服装工程学院	71	613	15.0	21.0
2	徐红岩	中国科学院上海有机化学研究所	10	14	1.0	3.0
3	李文曲	苏州大学纺织与服装工程学院	1	1	1.0	1.0