0.6μm CMOS工艺迟滞比较器的失配分析

• 作者: 徐建 焦阳 王志功
• 来源期刊: 电路与系统学报
• 学科: 工学
• 关键词: 失配 CMOS工艺 迟滞比较器 Monte Carlo分析
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 87-91,44
• 页数: 6页
• 分类号: TN432
• 字数: 2941字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-0249.2009.03.017

摘要

本文对一个采用0.6μm CMOS工艺的迟滞比较器的失配性能进行了理论分析,探讨了关键部件的尺寸失配对该比较器迟滞性能的影响.Hspice仿真证明了理论分析的正确性;Monte Carlo仿真进一步分析了该比较器性能对失配参数的敏感性.本文的工作为今后的抗失配设计改进提供了方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志功	东南大学射频与光电集成电路研究所	342	2153	20.0	29.0
2	徐建		7	24	4.0	4.0
3	焦阳	东南大学射频与光电集成电路研究所	7	18	3.0	4.0