钨涂层面对等离子体材料出气性能的研究

• 作者: 李建刚 种法力 郑学斌 陈俊凌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 钨涂层 面对等离子体材料 出气性能
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 61-63
• 页数: 3页
• 分类号: TG146.4|TL62+7
• 字数: 1491字
• 语种: 中文

摘要

钨由于高熔点、低溅射率等优点而被广泛的认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料.然而考虑到等离子体约束和边界气体再循环,钨涂层面对等离子体材料在真空中的出气性能的研究是十分重要的.研究结果显示钨涂层主要出气种类为H2,H2O,O2,CO/N2和CO2.在300℃、经过4小时的烘烤,涂层出气率有明显的降低,特别是H2O和CO/N2;继续烘烤对涂层出气率改善效果不显著,因此真空等离子体喷涂钨涂层在用作面对等离子体材料时,仍需要烘烤、放电清洗等壁处理手段.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈俊凌	中国科学院等离子体物理研究所	43	333	12.0	16.0
2	李建刚	中国科学院等离子体物理研究所	49	705	13.0	25.0
3	种法力	徐州工程学院数理学院	28	70	4.0	7.0
4	郑学斌	中国科学院上海硅酸盐研究所	52	489	12.0	20.0