电沉积制备铁-镍因瓦合金的工艺研究

• 作者: 刘意春 刘磊 李家科 沈彬 胡文彬
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 因瓦合金 铁镍合金镀层 硫酸盐 电沉积 工艺参数
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3922字
• 语种: 中文

摘要

采用硫酸盐镀液体系,在紫铜箔上电沉积制备了Fe-Ni合金镀层,研究了镀液成分(如镀液中添加剂含量.Ni2+/Fe2+浓度比)及主要的沉积工艺参数(包括阴极电流密度、温度和搅拌速率)对镀层表面质量、成分及组织的影响.镀液成分及最佳工艺参数为:0.3 mol/L NiSO4·6H2O,0.08 mol/L FeSO4·7H2O,2g/L糖精,0.35 g/L 1,4-丁炔二醇,电流密度3.7 A/dm2,施镀温度40℃,搅拌速率200 r/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡文彬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1984	25.0	41.0
2	沈彬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	69	959	17.0	27.0
3	刘磊	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	83	1038	17.0	29.0
4	李家科	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	3	18	3.0	3.0
5	刘意春	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	3	31	3.0	3.0