数字灰度投影光刻技术

• 作者: 严伟 唐小萍 张正荣 张雨东 王建 王淑蓉 王肇志 胡松 赵立新
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 数字灰度光刻 无掩模光刻 投影物镜 数字微镜器件 拼接
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 181-185
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2968字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2009.03.010

摘要

随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点.介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了DMD的灰度调制机理和投影成像特性;阐述了DMD微镜结构与投影系统的倍数、数值孔径的关系;设计了投影光刻系统,并进行了分辨力和三维面形的曝光实验.实验结果表明,数字灰度投影光刻技术灵活、方便,尤其在三维浮雕微结构的制作方面,可实现光刻灰度的数字化调制,表面粗糙度可达0.1μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王淑蓉	中国科学院光电技术研究所	5	35	3.0	5.0
2	唐小萍	中国科学院光电技术研究所	32	193	8.0	12.0
3	严伟	中国科学院光电技术研究所	67	294	10.0	13.0
4	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
5	王建	中国科学院光电技术研究所	154	3577	30.0	54.0
6	赵立新	中国科学院光电技术研究所	38	346	12.0	17.0
7	王肇志	中国科学院光电技术研究所	9	49	4.0	6.0
8	张正荣	中国科学院光电技术研究所	5	46	4.0	5.0