基于平面结构的正交可控电抗器磁通特性分析方法

• 作者: 刘杰 胡晓光 魏晓霞
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 正交可控电抗器 磁通 平面分析
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 其他电子技术
• 页码范围: 828-832
• 页数: 5页
• 分类号: TM761
• 字数: 2402字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2009.04.027

摘要

正交可控电抗器的三维磁路模型结构较为复杂,适用于分析正交电抗器某些特性,但无法直观表达该电抗器的磁路结构.文中提出一种平面结构用于分析正交可控电抗器磁通特性,并通过仿真软件FEMM对正交可控电抗器的平面结构,进行磁通分布情况和磁路结构的分析,该方法便于正交可控电抗器的磁通特性分析,通过磁通和磁势的仿真数据结果对比,可以进一步得到正交可控电抗器的磁路模型和磁动势方程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡晓光	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	47	936	15.0	30.0
2	魏晓霞	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	2	1	1.0	1.0
3	刘杰		1	1	1.0	1.0