硫化钨薄膜制备方法的研究

• 作者: 巴德纯 杜广煜 王晓光
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二硫化钨 制备方法 磁控溅射 射频溅射 硫化法
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 73-77
• 页数: 5页
• 分类号: TB752|TQ174
• 字数: 3803字
• 语种: 中文

摘要

层状物固体润滑薄膜是固体润滑薄膜中最常用的形式,这种薄膜都具有优良的减摩、耐磨、抗擦伤性能.本文介绍了目前主要的硫化钨薄膜的制备方法,并通过射频溅射方法和硫化法制备了硫化钨薄膜,对各种制备方法进行了对比.通过溅射方法获得的硫化钨薄膜的化学成分会随工作压力和溅射功率发生变化,同时薄膜的结晶率不高,而非晶态WS2薄膜的摩擦性能具有不确定性.但目前溅射方法仍是固态硫化钨薄膜最主要的制备方法.而通过硫化WO3薄膜获得的WS2薄膜,可以通过调整硫化温度和保温时间来获得具有较好的结晶性和有利的晶粒取向,从而提高薄膜的摩擦学性能.通过这种方法获得的WS2薄膜的一些其它性能,尚需作进一步研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学真空与流体工程中心	250	1491	18.0	22.0
2	杜广煜	东北大学真空与流体工程中心	28	84	6.0	8.0
3	王晓光		6	33	3.0	5.0