磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟

• 作者: 佟洪波 柳青
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: AlN薄膜 溅射产额 蒙特卡罗模拟
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 98-100
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444|TB43
• 字数: 2903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.03.033

摘要

应用蒙特卡罗程序TRIM对Ar+轰击AIN的微观过程进行了模拟.对不同能量以及不同角度下Ar+轰击AlN引起的溅射产额进行了系统的研究.随着入射离子能量的逐渐增加,AlN的溅射产额呈上升趋势.AlN的溅射产额随入射角增加而逐渐升高,在75°左右达到峰值,超过75°后,溅射产额急剧下降.实验发现垂直入射时和斜入射时,Al和N两元素的分溅射产额的比值变化规律有着明显的不同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	佟洪波	辽宁石油化工大学机械工程学院	10	75	6.0	8.0
2	柳青	辽宁石油化工大学机械工程学院	8	40	4.0	6.0