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摘要:
本文采用反射式高能电子衍射(RHEED)监测脉冲激光沉积法制备钛酸铅薄膜过程.根据PbTiO3/MgO(001)薄膜、PbTiO3/Si(100)薄膜生长过程中RHEED强度的时间演变,分析基片对薄膜生长模式的影响.并且观测不同生长时刻的RHEED强度的空间分布,讨论生长过程中薄膜表面的台阶尺寸变化.另外,比较在不同氧分压下沉积的钛酸铅薄膜表面的RHEED图案,发现氧气将改变薄膜的微结构,提高薄膜的结晶性.
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文献信息
篇名 PLD制备钛酸铅薄膜过程的RHEED分析
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 钛酸铅薄膜 脉冲激光沉积 RHEED 生长模式
年,卷(期) 2009,(4) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 341-345
页数 5页 分类号 T8115I|T7755
字数 3434字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.04.01
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 沈军 同济大学物理系 199 2285 26.0 36.0
2 吴卫东 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 140 1087 18.0 26.0
3 葛芳芳 同济大学物理系 7 9 2.0 2.0
5 曹林洪 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 4 7 2.0 2.0
6 白黎 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 5 19 2.0 4.0
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钛酸铅薄膜
脉冲激光沉积
RHEED
生长模式
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研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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