位相型光瞳滤波器对共焦系统离焦工作状态横向分辨特性的影响

• 作者: 汪洪滨 赵维谦 邱丽荣
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学测量 共焦系统 位相型光瞳 离焦特性 表面轮廓 超分辨滤波
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 光学测量
• 页码范围: 399-401,405
• 页数: 4页
• 分类号: TN742
• 字数: 2000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2009.03.005

摘要

分析了共焦显微系统(CMS)离焦状态工作时分辨特性的变化,指出了离焦状态是导致CMS横向分辨特性变差的主要影响因素之一.提出并采用了位相型超分辨光瞳滤波技术来改善CMS工作在离焦状态下的横向分辨特性,分析了超分辨光瞳滤波器位置变化对CMS横向分辨特性的影响.理论分析和实验验证表明,位相型超分辨光瞳滤波技术的引入,显著抑制了CMS工作在离焦状态时艾里斑旁瓣的增长,克服了CMS因工作在离焦状态而引起的横向分辨特性下降的缺点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪洪滨		9	24	3.0	4.0
2	邱丽荣	北京理工大学光电学院	42	160	7.0	11.0
3	赵维谦	北京理工大学光电学院	55	192	8.0	11.0