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摘要:
采用了2种γ脉冲辐射源,在脉冲宽度分别约为20,50,150 ns,剂量率为106~109 Gy(Si)·s-1下,对5种不同类型的电子器件进行了辐照试验并对其辐照响应进行了分析,比较了不同脉冲宽度条件下辐照响应的差异.实验结果表明:脉冲宽度是影响瞬时辐照效应的重要因素,γ脉冲宽度越宽,辐照响应越强,分离器件比集成电路受脉宽的影响更明显.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 γ脉宽对电子器件瞬时辐照效应的影响
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 脉冲宽度 辐射效应 剂量率 辐射存储时间
年,卷(期) 2009,(10) 所属期刊栏目 粒子束技术
研究方向 页码范围 1539-1541
页数 3页 分类号 TN386
字数 2502字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵洪超 中国工程物理研究院电子工程研究所 9 18 3.0 4.0
2 朱小锋 中国工程物理研究院电子工程研究所 6 26 3.0 5.0
3 周开明 中国工程物理研究院电子工程研究所 12 54 4.0 7.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
脉冲宽度
辐射效应
剂量率
辐射存储时间
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
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7
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61664
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