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HIT太阳电池的单晶硅表面腐蚀工艺的研究
HIT太阳电池的单晶硅表面腐蚀工艺的研究
作者:
宋佩珂
宋志成
曾祥斌
王慧娟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
HIT
各向异性腐蚀
绒面结构
摘要:
对用于HIT太阳电池的单晶硅要求有良好的界面特性,而且要求单晶硅衬底的厚度比较薄.采用各向异性腐蚀的方法制得了具有绒面结构的单晶硅衬底.腐蚀时间为40 min时,能够得到表面反射率最低的界面,平均反射率为10.9%,同时也具有规则的金字塔结构,且厚度满足制作HIT太阳电池的要求,在250 μm左右.还研究了用各向同性腐蚀的方法来减薄硅片,具有较高的腐蚀速率.
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文献信息
篇名
HIT太阳电池的单晶硅表面腐蚀工艺的研究
来源期刊
半导体光电
学科
工学
关键词
HIT
各向异性腐蚀
绒面结构
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
材料、结构及工艺
研究方向
页码范围
392-395
页数
4页
分类号
TM914.4
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曾祥斌
华中科技大学电子科学与技术系
45
285
10.0
14.0
2
宋志成
华中科技大学电子科学与技术系
2
9
1.0
2.0
3
宋佩珂
华中科技大学电子科学与技术系
1
9
1.0
1.0
4
王慧娟
华中科技大学电子科学与技术系
4
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引证文献(0)
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各向异性腐蚀
绒面结构
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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主办单位:
重庆光电技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-5868
CN:
50-1092/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号44所内
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
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22967
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英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
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