走带速率对Y2O3隔离层生长的影响

• 作者: 冯校亮 刘慧舟 张华 杨坚 金薇
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 走带速率 Y2O3隔离层 反应溅射 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TM26
• 字数: 2118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2009.01.008

摘要

采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上连续制备了 Y2O3隔离层.用X射线θ～2θ扫描, φ扫描对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察.主要研究了走带速率对隔离层外延生长及表面形貌的影响.实验表明:随着走带速率的增大,Y2O3的平面内φ扫描半高宽(FWHM)增大,(400)峰的相对强度减小,晶粒更加细小;同时,制备的三层Y2O3隔离层,其面内φ扫描半高宽取决于第一层的半高宽;最终在三层Y2O3隔离层上沉积了有良好外延取向的YBCO超导层,其FWHM为8.0°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坚		34	201	6.0	13.0
2	刘慧舟		24	209	6.0	14.0
3	冯校亮		4	11	2.0	3.0
4	张华		20	152	5.0	12.0
5	金薇		5	40	2.0	5.0