氮掺杂对氟化非晶碳薄膜微观结构的影响

• 作者: 侯玉宝 高金定
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 氟化非晶碳 氮掺杂 微观结构 表面形貌 FTIR光谱 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 385-388
• 页数: 4页
• 分类号: TM215.3
• 语种: 中文

摘要

以CH4,CF4,N2为源气体,用RF-PECVD法,通过改变N2流量制备了一批掺氮氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜样品.分析了氮掺杂对薄膜微观结构的影响.研究发现:掺氮后薄膜表面更均匀致密,均方粗糙度(RMS)由未掺氮的2.553 nm降为1.406 nm.FTIR测试表明掺氮后薄膜中出现了C=N及C≡N,随着氮流量的增加,1 620 cm-1附近吸收峰往高频移动,CFx基团含量下降,C=C基团含量上升.Raman光谱分析表明:随着氮流量的增加,D峰与G峰强度之比由未掺氮时的1.461增加到了掺氮后的2.545,薄膜内sp2键态含量增加,即芳香环式结构比例上升.结果表明:掺氮能有效增强a-C:F薄膜交联结构,从而提高薄膜热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高金定	中南大学信息物理工程学院	23	117	5.0	10.0
5	侯玉宝	湖南涉外经济学院电气与信息工程学部	13	55	4.0	7.0